今年3月8日，荷蘭方面，計(jì)劃對(duì)半導(dǎo)體技術(shù)出口實(shí)施新的管制，這些管制措施將在今天夏天之前開(kāi)始實(shí)施。3月9日上午，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥發(fā)布聲明表示，ASML預(yù)計(jì)必須申請(qǐng)?jiān)S可證方可出口DUV設(shè)備。至于所謂浸沒(méi)式光刻機(jī)，屬于193nm光刻機(jī)，可以被用于16nm至7nm先進(jìn)制程芯片的制造，但是目前也有被業(yè)界廣泛應(yīng)用在45nm及以下的成熟制程當(dāng)中。...

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